先端無機薄膜研究室 @ 青山学院大学

先端無機薄膜研究室(重里有三研究室)

青山学院大学 理工学部

2018年度

  • 岩﨑 慎平, 賈 軍軍, 岡島 敏浩, 重里 有三
    アモルファス酸化インジウム系薄膜の結晶化
    日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 第82回研究会, 東京 (2019/1).
  • 北沢 侑加, 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    ガスバリア膜を用いたフレキシブル光触媒シートの開発
    日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 第82回研究会, 東京 (2019/1).
  • Minseok Kim, Junjun Jia, Hiroshi Yanagi, Yuzo Shigesato
    Optical properties of amorphous Cd-In-O film evaluated by ellipsometry method.
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 岡 伸人, 村田 亜紀代, 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    Ptナノ粒子と担持した可視光応答型WO3光触媒薄膜に関する研究
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 鈴木 崇啓, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 賈 軍軍, 重里 有三
    アモルファスDLC薄膜のラマンスペクトルと熱物性に及ぼすTiドーパントの影響
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 賈 軍軍, 原 智彦, 中村 新一, 重里 有三
    アモルファスIGZOトランジスタにおける欠陥構造と電子構造の関係性の解明
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 岩﨑 慎平, 賈 軍軍, 岡島 敏浩, 重里 有三
    アモルファスIn2O3系薄膜の結晶化に関する研究」
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 中野 綾香, 竹歳 尚之, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 重里 有三
    スパッタ法で作製したヘテロエピタキシャルITOおよびIn2O3薄膜の電気特性と熱物性
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 賈 軍軍, 原 智彦, 中村 新一, 重里 有三
    スパッタ法を用いた作製してZn-InO-N薄膜の構造特性と光学特性
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 安倍 知奈実, 山下 雄一郎, 田中 幸美, 八木 貴志, 賈 軍軍, 服部 浩一郎, 竹歳 尚之, 小口 有希, 重里 有三
    モルファス(AlxGa1-x)2O3の熱物性及び工学特性
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 小泉 海樹, 八木 貴志, 山下 雄一郎, 賈 軍軍, 小口 有希, 竹歳 尚之, 重里 有三
    ルチル型全率固溶体Ti1-xSnxO2薄膜の格子定数、光学的バンドギャップおよび熱物性
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 青木 優津希, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 小口 有希, 重里 有三
    反応性スパッタリングを用いたαおよびβ-MoO3薄膜の作製とその熱物性
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 帯刀 理沙, 賈 軍軍, 重里 有三
    還元したアモルファス参加タングステン(WO3-x)薄膜の誘電関数」
    第28回日本MRS年次大会, 福岡 (2018/12).
  • 安倍 知奈実, 山下 雄一郎, 田中 幸美, 八木 貴志, 賈 軍軍, 服部 浩一郎, 竹歳 尚之, 小口 有希, 重里 有三
    (AlxGa1-x)2O3複合アモルファス薄膜における熱拡散率の組成依存性
    第36回日本熱物性シンポジウム, 愛知 (2018/11).
  • 鈴木 崇啓, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 重里 有三
    Tiドープダイヤモンドライクカーボン薄膜における化学組成と熱伝導率(2)-基板加熱が酸素不純物と熱伝導率に与える影響-
    第36回日本熱物性シンポジウム, 愛知 (2018/11).
  • 青木 優津希, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 小口 有希, 重里 有三
    α型およびβ型MoO3多結晶薄膜の熱伝導率
    第36回日本熱物性シンポジウム, 愛知 (2018/11).
  • 小泉 海樹, 八木 貴志, 山下 雄一郎, 賈 軍軍, 小口 有希, 竹歳 尚之, 重里 有三
    チタン-スズ複合酸化膜の熱伝導率と組成依存性
    第36回日本熱物性シンポジウム, 愛知 (2018/11).
  • 中野 綾香, 竹歳 尚之, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 重里 有三
    ヘテロエピタキシャルIn2O3薄膜における熱と電気の輸送特性
    第36回日本熱物性シンポジウム, 愛知 (2018/11).
  • 山下 雄一郎, 本多 夏穂, 賈 軍軍, 重里 有三, 竹歳 尚之, 八木 貴志
    熱流方向と平行な結晶粒界におけるフォノン錯乱の熱伝導率への影響
    第36回日本熱物性シンポジウム, 愛知 (2018/11).
  • [Invited] 賈 軍軍, 重里 有三
    スパッタ法を用いた酸化物半導体薄膜の作製およびTFT特性
    第2回酸化物半導体討論会, 神奈川 (2018/10).
  • Y. Kitazawa, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Control on the interface between thin film TiO2 photocatalyst and PET, PI substrates
    ACSIN-14 & ICSPM26, Miyagi, Japan (2018/10).
  • Y. Suga, T. Kato, J. Jia, K. Tomimoto, Y. Oguchi, S. Nakamura, Y. Shigesato
    IrOx based Electrochromic films deposited by rf suputtering
    ACSIN-14 & ICSPM26, Miyagi, Japan (2018/10).
  • K. Terashima, J. Jia, S. Nakamura, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Switchable mirror materials based on Gd-Mg alloy deposited by sputtering
    ACSIN-14 & ICSPM26, Miyagi, Japan (2018/10).
  • K. Honda, Y. Yamashita, J. Jia, T. Yagi, S. Nakamura, N. Takegoshi, Y. Shigesato
    Effects of the Al doping on thermal conductivity for heteroepitaxially grown Al-doped ZnO films
    7th International Symposium on Transparent Conductive Materials (IS-TCMs), Crete, Greece (2018/10).
  • T. Okajima, J. Jia, H. Nishiyama, Y. Shigesato
    Local structure of Nb and/or N doped TiO2 film formed by reactive sputtering
    7th International Symposium on Transparent Conductive Materials (IS-TCMs), Crete, Greece (2018/10).
  • M. Saito, J. Jia, S. Nakamura, H. Machinaga, D. Gloess, Y. Shigesato
    Optical properties of niobium oxide films deposited by reactive sputtering with the plasma emission feedback system
    7th International Symposium on Transparent Conductive Materials (IS-TCMs), Crete, Greece (2018/10).
  • 須賀 結奈, 加藤 勉, 賈 軍軍, 富本 晃吉, 小口 有希, 中村 新一, 重里 有三
    rfスパッタリングによるIrOx系エレックトロクロミック薄膜の作製
    第79回応用物理学会秋季学術講演会, 愛知 (2018/9).
  • 岩﨑 慎平, 山本 新吾, 賈 軍軍, 岡島 敏浩, 重里 有三
    アモルファスITOおよびIGZO薄膜の結晶化に関する研究
    第79回応用物理学会秋季学術講演会, 愛知 (2018/9).
  • 賈 軍軍, 重里 有三
    反応性スパッタによるITO並びにIZO透明導電膜の高速成膜
    VACUUM2018 真空展, 神奈川 (2018/9).
  • 岡島 敏浩, 賈 軍軍, 西山 碩芳, 重里 有三
    反応性スパッタリングによりNb,N ドープしたTiO2 膜の局所構造
    第21回XAFS討論会, 北海道 (2018/9).
  • Y. Kitazawa, J.Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato
    High Quality TiO2 Photocatalyst Deposited on PET or PI Polymer Films by Reactive Sputtering for Flexible Photocatalytic Sheet
    The 22nd International Conference on Photochemical Conversion and Storage of Solar Energy (IPS-22), Anhui, China (2018/7).
  • [Invited] J. Jia, N. Oka, Y. Shigesato
    Thin Film Photocatalysts sith Visible-Light Activities Deposited by Magnetron Sputtering
    The 22nd International Conference on Photochemical Conversion and Storage of Solar Energy (IPS-22), Anhui, China (2018/7).
  • [Invited] J. Jia, Y. Shigesato
    Phonon Engineering on In2O3-and ZnO-based Thin Films
    CIMTEC 2018, Perugia, Italy (2018/6).
  • [Invited] 重里 有三
    透明導電膜の種類・性質・導電メカニズム、および、最新動向
    SAGA-LSセミナー, 佐賀 (2018/6).
  • [Invited] 重里 有三
    透明導電膜の基礎と最新動向-各種特性、成膜技術、今後の展望等-
    サイエンス&テクノロジー主催セミナー, 東京 (2018/5).
  • [Invited] 重里 有三
    様々な透明導電膜の研究開発の現状と今後の展望
    様々な透明導電膜の研究開発の現状と今後の展望, 神奈川 (2018/5).
  • J. Jia, T. Sugane, Y. Shigesato
    Fabrication of p-type SnOx Thin Films and its Defect Structure
    MRS Spring Meeting 2018, Arizona, USA (2018/4).

トップに戻る

2017年度

  • 下柳 勇次, 賈 軍軍, 中村 新一, 伊村 正明, 金井 敏正
    Gd並びにMg-Y薄膜のスイッチングミラー特性の高性能化
    第65回応用物理学会春季学術講演会, 東京 (2018/3).
  • 石川 崚, 賈 軍軍, 重里 有三
    スパッタ法によるAl1-xGaxNの成膜
    第65回応用物理学会春季学術講演会, 東京 (2018/3).
  • 山本 晴香, 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    反応性スパッタリングによる金属ドープTiO2およびTiO2-X膜の光学特性
    第27回MRS年次大会, 神奈川 (2017/12).
  • [Invited] 重里 有三
    透明導電膜の熱物性 (Review on Thermophysical Properties of Transparent Conductive Oxide Films)
    第27回日本MRS年次大会, 神奈川 (2017/12).
  • J. Jia, S. Yamamoto, T. Okajima, Y. Shigesato
    Experimental Investigation on Structural Evolution of Amorphous Indium-Based Oxide Films During Annealing by In Situ XRD and EXAFS Measurements
    2017MRS Fall Meeting & Exhibit, Boston, USA (2017/11).
  • J. Jia, T. Hara, Y. Shigesato
    Structural Characterization of Functional ZnO-InN Alloy Films
    2017MRS Fall Meeting & Exhibit, Boston, USA (2017/11).
  • J. Jia, H. Kamijo, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Structural, Optical and Electrical Properties of Zn3N2 Films Deposited by dc or rf Magnetron Sputtering
    2017MRS Fall Meeting & Exhibit, Boston, USA (2017/11).
  • 峯岸 智志, 八木 貴志, 賈 軍軍, 山下 雄一郎, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    TiO2(001)基板に作製したエピタキシャルVO2の膜成長と熱伝導率
    第38回日本熱物性シンポジウム, 茨城 (2017/11).
  • 鈴木 崇啓, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 賈 軍軍, 重里 有三
    Tiドープダイヤモンドライクカーボン薄膜における化学組成と熱伝導率
    第38回日本熱物性シンポジウム, 茨城 (2017/11).
  • 本多 夏穂, 山下 雄一郎, 賈 軍軍, 八木 貴志, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    エピタキシャルZnO薄膜におけるフォノン熱伝導率の結晶性方位依存性
    第38回日本熱物性シンポジウム, 茨城 (2017/11).
  • 中野 綾香, 竹歳 尚之, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 重里 有三
    ヘテロエピタキシャルITO薄膜における熱と電気の輸送特性
    第38回日本熱物性シンポジウム, 茨城 (2017/11).
  • N. Oka, M. Watanabe, J. Jia, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato
    Electrochromic WO3 Films with controlled high-rate deposition by Hollow Cathode Gas Flow Sputtering
    The 232nd Electrochemical Society (ECS) MEETING, Maryland, USA (2017/10).
  • 鈴木 崇啓, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 賈 軍軍, 重里 有三
    ダイヤモンドライクカーボン薄膜中のTiドーパントによる熱伝導率への影響
    第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡 (2017/9).
  • 中野 綾香, 竹歳 尚之, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 重里 有三
    ヘテロエピタキシャルITO薄膜における熱伝導率の結晶方位依存性
    第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡 (2017/9).
  • 北沢 侑加, 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    ポリマーフィルムを用いた高機能フレキシブルTiO2光触媒薄膜の作製
    第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡 (2017/9).
  • 賈 軍軍, 岡島 敏浩, 重里 有三
    後焼成によるアモルファスIGZO薄膜の欠陥変化及びそのメカニズム
    第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡 (2017/9).
  • 帯刀 理沙, 賈 軍軍, 重里 有三
    還元された酸化タングステン(WO3-x)薄膜の誘電関数
    第78回応用物理学会秋季学術講演会, 福岡 (2017/9).
  • S. Minegishi, T. Yagi, J. Jia, Y. Yamashita, S. Nakamura, N. Taketoshi, Y. Shigesato
    Thermal Conductivity of Epitaxial VO2 Film at The Metal-Insulator Phase Transition
    European Conference on Thermophysical Properties (ECTP 21st 2017), Graz, Austria (2017/9).
  • A. Nakano, N. Taketoshi, Y. Yamashita, T. Yagi, J. Jia, Y. Shigesato
    Characterization of heteroepitaxial grown ITO films deposited by sputtering
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • J. Jia, H. Wardenga, A. Klein, Y. Shigesato
    Characterization of Layered In2O3(ZnO)m Films
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • N. Ishiguro, J. Jia, M. Kurose, H. Machinaga, Y. Shigeasto
    Characterization of Si or Ti-doped diamond-like carbon films
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • H. Yamamoto, J. Jia, T. Arakawa, S. Nakamura, m. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Crystal structure control of TiO2 films deposited by reactive sputtering
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • M. Saito, J. Jia, S. Nakamura, H. Machinaga, D. Gloess, Y. Shigesato
    Deposition of Niobium Oxide films by reactive sputtering with the plasma emission monitoring system
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • R. Tatewaki, J. Jia, Y. Shigesato
    Dielectricconstant and work function of tungsten oxide (WO3-x) films
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • S. Minegishi, T. Yagi, H. Kizuka, J. Jia, Y. Yamashita, S. Nakamura, N. Taketoshi, Y. Shigesato
    Electrical and thermal conductivity change for epitaxial VO2 film at the metal-insulator phase transition
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • S. Yamamoto, J. Jia, T. Okajima, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Experimental investigation on crystallization of In2O3 based amorphous transparent conductive oxide films
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • T. Kubota, S. honda, k. Azuma, J. Jia, Y. Shigesato, K.Y. Lee
    Fabrication of graphene and molybdenum oxide hybrid films for transparent conductive films
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • Y. Shitayanagi, J. Jia, S. Nakamura, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Gd and Mg-Y switching mirror materials deposited by sputtering
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • Y. Yamashita, J. Jia, T. Yagi, S. Nakamura, N. Taketoshi, Y. Shigeasto
    Optical, electrical, and thermophysical properties of heteroepitaxial grown Al-doped ZnO (AZO)” K. Honda
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • T. Okajima, J. Jia, H. Yamamoto, Y. Shigesato
    Phase Stability of Sn doped TiO2 studied by X-ray Absorption Spectroscopy and First-Principles DFT Calculations
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • Y. Kitazawa, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Photocatalytic TiO2 films deposited on flexible polymer substrates by reactive sputtering
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • T. Sugane, J. Jia, S. Nakamura, D. Gloess, Y. Shigesato
    Reactive sputter deposition of n-type and p-type SnOx films
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • N. Oka, Y. Sanno, J. Jia, Y. Shigesato
    Reactive sputter deposition of Nb-doped TiO2 films using Ni-Ti alloy target with impedance control systems
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • R. Ishikawa, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Structural characterization of GaN films deposited by rf sputtering using He, Ne, Ar, and Kr as sputtering gases
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • T. Hara, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Study on the Zn-In-O-N(SION) films deposited by dc or rf sputtering
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • J. Jia, H. Nishiyama, T. Okajima, Y. Shigesato
    Tailoring Crystal Structural of Sputtered TiO2 Film by Impurity Doping
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • T. Suzuki, Y. Yamashita, T. Yagi, N. Taketoshi, J. Jia, Y. Shigesato
    Thermal conductivity of Ti-doped diamond-like carbon thin fims
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • H. Kmijyo, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shiogesato
    Zn3N2 films deposited by dc or rf magnetron sputtering
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • [Invited] N. Oka, Y. Shigesato
    Thermophysical Properties of Transparent Conductive Oxide Thin Films
    IUMRS-ICAM 2017 Symposium B-1 (3rd Bilateral MRS-J / E-MRS symposium), Kyoto, Japan (2017/8).
  • Haruka Yamamoto, Junjun Jia, Hiroyoshi Nishiyama, Yuzo Shigesato
    Dielectric function of Nb-TiO2 and TiO2-x films by reactive sputtering
    10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-10), Tokyo, Japan (2017/7).
  • T. Sugane, J. Jia, S. Nakamura, D. Gloess, Y. Shigesato
    n-type and p-type SnOx films deposited by reactive sputtering with the impedance control system
    10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-10), Tokyo, Japan (2017/7).
  • M. Saito, J. Jia, S. Nakamura, H. Machinaga, D. Gloess, Y. Shigesato
    Niobium Oxide films with precisely controlled various stoichiometry deposited by reactive sputtering with the plasma emission monitoring system
    10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-10), Tokyo, Japan (2017/7).
  • Junjun Jia, Tomohiko Hara, Yuzu Shigesato
    Structural, optical and electrical properties of sputtered (ZnO) x (InN) 1−x Films
    10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-10), Tokyo, Japan (2017/7).
  • 下柳 勇次, 賈 軍軍, 中村 新一, 伊藤 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    スイッチングミラー材料Gd, Mg-Yを用いたスマートウィンドウの開発
    第6回JACI/GCSシンポジウム, 東京 (2017/7).
  • 石川 崚, 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    スパッタ成膜したGaNのキャラクタリゼーション
    第6回JACI/GCSシンポジウム, 東京 (2017/7).
  • 北沢 侑加, 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    ポリマーフィルムを用いたフレキシブルTiO2光触媒薄膜の作製
    第6回JACI/GCSシンポジウム, 東京 (2017/7).
  • [Invited] Yuzo Shigesato, Junjun Jia, Nobuto Oka
    Reactive sputter depositions of various TCO films with the low resistivity
    10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-10), Tokyo, Japan (2017/7).
  • [Invited] Yuzo Shigesato, Junjun Jia
    Reactive sputter depositions of various TCOs, photocatalysts and thermochromic films
    21th International Conference on Solid State Ionics (SSI-2017), Padua, Italy (2017/6).
  • [Invited] 重里 有三
    反応性スパッタリングによる様々な機能性酸化物・窒化物の成膜
    日本学術振興会薄膜第131委員会 第284回研究会, 東京 (2017/4).
  • J. Jia, Y. Yamashita, T. Yagi, Y. Shigesato
    Thermal conduction in homologous In2O3(ZnO)m films
    2017 MRS Spring Meeting & Exhibit, Arizona, USA (2017/4).
  • K. Honda, Y. Yamashita, J. Jia, T. Yagi, S. Nakamura, N. Taketoshi, Y. Shigesato
    Thermal conductivities of epitaxial Al-doped and ZnO thin films deposited by magnetron sputtering
    2017 MRS Spring Meeting & Exhibit, Arizona, USA (2017/4).
  • J. Jia, K. Taniyama, N. Miyazawa, M. Imura, T. kanai, Y. Shigesato
    TiO2 Film as Visible-Light Active Photocatalyst by Designing the Multilayer Structure with WO3 Film
    2017 MRS Spring Meeting & Exhibit, Arizona, USA (2017/4).

トップに戻る

2016年度

  • [Invited] 重里 有三
    透明導電膜の基礎と応用、および最新動向
    「透明導電膜の基礎と応用、および最新動向」セミナー, 東京 (2017/3).
  • 所 寛典, 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    DC及びRFスパッタ法によるZn3N2薄膜の合成
    第64回応用物理学会春季学術講演会, 神奈川 (2017/3).
  • 原 智彦, 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    反応性コ・スパッタ法によるZn-In-O-N(ZION)の成膜
    第64回応用物理学会春季学術講演会, 神奈川 (2017/3).
  • 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 重里 有三
    層状構造を持つIn2O3(ZnO)m薄膜の熱伝導率
    第64回応用物理学会春季学術講演会, 神奈川 (2017/3).
  • [Invited] 重里 有三
    スマートウィンドウ技術
    セラミックスを用いた先進コーティング市場進出への戦略策定 スマートウィンドウ専門部会, 東京 (2017/2).
  • 賈 軍軍, 重里 有三
    In2O3(ZnO)m薄膜の熱電特性及び評価方法
    日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 第74回研究会, 東京 (2017/1).
  • M. Saito, J. Jia, S. Nakamura, H. Machinaga, D. Gloess, Y. Shigesato
    Deposition of Niobium Oxide films by reactive sputtering with the plasma emission feedback system in the transition region
    26th Annual Meeting of MRS-Japan 2016 (MRS-J), Yokohama, Japan (2016/12).
  • T. Sugane, J. Jia, S. Nakamura, D. Gloess, Y. Shigesato
    High rate diposition of n-type and p-type SnOx films deposited by reactive magnetron sputtering with unipolar pulsing and impedance control system
    26th Annual Meeting of MRS-Japan 2016 (MRS-J), Yokohama, Japan (2016/12).
  • T. Hara, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Selective deposition of polycrystalline anatase TiO2 films by reactive sputtering with Nb or N dopings
    26th Annual Meeting of MRS-Japan 2016 (MRS-J), Yokohama, Japan (2016/12).
  • H. Yamamoto, J. Jia, H. Kotake, S. Nakamura, T. Okajima, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Selective deposition of polycrystalline rutile TiO2 films by reactive sputtering with controlling deposition parameters or Sn-doping
    26th Annual Meeting of MRS-Japan 2016 (MRS-J), Yokohama, Japan (2016/12).
  • T. Hara, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Study on ZnO-InN(ZnInON) films as the functional oxynitride materials
    26th Annual Meeting of MRS-Japan 2016 (MRS-J), Yokohama, Japan (2016/12).
  • H. Kamijyo, J. Jia, Y. Shigesato
    Synthesis of Zn3N2 fils by DC and RF magnetron sputtering
    26th Annual Meeting of MRS-Japan 2016 (MRS-J), Yokohama, Japan (2016/12).
  • Y. Miyazaki, E. Maruyama, H. Machinaga, J. Jia, Y. Shigesato
    Transparent conductive ITO films deposited by reactive sputtering with plasma emission feedback system
    26th Annual Meeting of MRS-Japan 2016 (MRS-J), Yokohama, Japan (2016/12).
  • 石黒 菜々子, 賈 軍軍, 黒瀬 愛美, 待永 広宣, 重里 有三
    DC/RFコ・スパッタリングにより作製したSi-DLC薄膜とTi-DLC薄膜
    第26回日本MRS年次大会, 神奈川 (2016/12).
  • 下柳 勇次, 細谷 梨菜, 賈 軍軍, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    スイッチングミラー材料を使用したスマートウィンドウの開発
    第26回日本MRS年次大会, 神奈川 (2016/12).
  • 谷山 謙太, 宮澤 七海, 賈 軍軍, 中村 新一, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    スパッタ法によるTiO2/WO3積層系可視光応答型光触媒の作製II
    第23回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」, 東京 (2016/12).
  • 上條 栞, 賈 軍軍, 中村 新一, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 重里 有三
    反応性スパッタ法により作製したIn1-xGaxN薄膜のバンドギャップ制御
    第23回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」, 東京 (2016/12).
  • 石川 崚, 磯﨑 勇児, 賈 軍軍, 中村 新一, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 重里 有三
    金属GaあるいはGaNをターゲットとして用いたスパッタ法によるGaN薄膜の作製
    第23回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」, 東京 (2016/12).
  • 本多 夏穂, 山下 雄一郎, 賈 軍軍, 八木 貴志, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    AlドープZnO(AZO)薄膜の熱伝導率におけるドーパントの影響
    第37回日本熱物性シンポジウム, 岡山 (2016/11).
  • 峯岸 智志, 八木 貴志, 鬼塚 日奈子, 賈 軍軍, 山下 雄一郎, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    エピタキシャルVO2薄膜における金属・絶縁体相転移による熱伝導率変化の発現条件
    第37回日本熱物性シンポジウム, 岡山 (2016/11).
  • 賈 軍軍, 八木 貴志, 山下 雄一郎, 重里 有三
    ホモロガスIn2O3(ZnO)m薄膜中の熱伝導現象
    第37回日本熱物性シンポジウム, 岡山 (2016/11).
  • Akiyo Murata, Nobuto Oka, Junjun Jia, Shinichi Makamura, Yuzo Shigesato
    Thin-Film WO3 Photocatalyst with Visible Light Activity; (1) Deposition by the conventional reactive sputtering
    2016 MRS Fall Meeting & Exhibit, Boston, USA (2016/11).
  • Nobuto Oka, Akiyo Murata, Yoshinori Iwabuchi, Hidefumi Kotsubo, Junjun Jia, Shinichi Nakamura, Yuzo Shigesato
    Thin-Film WO3 Photocatalyst with Visible Light Activity; (2) Deposition by the hollow cathode gas flow sputtering
    2016 MRS Fall Meeting & Exhibit, Boston, USA (2016/11).
  • 岸 智志, 八木 貴志, 鬼塚 日奈子, 賈 軍軍, 山下 雄一郎, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    ヘテロエピタキシャル成長したVO2薄膜の熱伝導率と金属絶縁体相転移
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 賈 軍軍, Hans Wardenga, Andreas klein, 重里 有三
    ホモロガス構造をもつIn2O3(ZnO)m薄膜の熱物性
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 数金 拓巳, 賈 軍軍, 中村 新一, ダニエル グロス, 重里 有三
    インピーダンス制御を用いた反応性スパッタ法によるn型およびp型SnOxの高速成膜
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 齋藤 真衣, 賈 軍軍, 中村 新一, ダニエル グロス, 重里 有三
    プラズマ発光制御を用いた反応性スパッタ法による酸化ニオブ(NbOx)成膜
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 谷山 謙太, 宮澤 七海, 賈 軍軍, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    反応性スパッタ法によるTiO2/WO3積層系可視光応答型の成膜
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 山本 晴香, 賈 軍軍, 古武 悠, 中村 新一, 岡島 敏浩, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の結晶構造制御(1);成膜パラメータによる、あるいはSnドープによるルチルの選択成長
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 西山 碩芳, 賈 軍軍, 中村 新一, 岡島 敏浩, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の結晶構造制御(2);Nb,Nドープによるアナターゼの選択成長
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 本多 夏穂, 山下 雄一郎, 賈 軍軍, 八木 貴志, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    多結晶およびエピタキシャルAlドープZnO(AZO)薄膜の熱伝導率
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 石川 崚, 磯﨑 勇児, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 中村 新一, 重里 有三
    金属GaあるいはGaNをターゲットとしてもしいたスパッタ法によるGaN薄膜の成膜
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • 石黒 菜々子, 賈 軍軍, 黒瀬 愛美, 待永 広宣, 重里 有三
    スパッタ法により作製したSi-DLCとTi-DLCのヂーパント効果」
    第77回応用物理学会秋季学術講演会, 新潟 (2016/9).
  • Yuzo Shigesato, Nobuto Oka, Junjun Jia
    Visible-light active thin-film WO3 photocatalyst deposited by low-damage hollow-cathode reactive-gas-flow sputtering
    15th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE2016), Bayern, Germany (2016/9).
  • [Invited] 重里 有三
    Reactive sputter deposition of functional oxide films with various performances
    15th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE2016), Garmisch-Partenkirchen, Germany (2016/9).
  • 久保田 崇史, 本多 信一, 重里 有三, 賈 軍軍
    グラフェンをベースとする高性能透明導電膜の作製
    兵庫県立大学シンポジウム, 兵庫 (2016/9).
  • [Invited] 重里 有三
    反応性スパッタリング、バイポーラ or ユニポーラパルススパッタリング、ガスフロースパッタリングの基礎と応用
    日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 第72回研究会, 東京 (2016/7).
  • [Invited] 重里 有三
    反応性スパッタ法による機能性酸化物薄膜の作製
    ナノ構造機能創成研究会, 東京 (2016/7).
  • Yusuke Miyazaki, Eri Maruyama, Junjun Jia, Hironobu Machinaga, Tsukasa Miyazaki, Yuzo Shigesato
    Deposition of indium-oxide based transparent conductive films by reactive sputtering using alloy targets
    European Materials Research Society(E-MRS) 2016 Spring Meeting, Lille, France (2016/5).
  • Junjun Jia, Bo Wang, Tsutomu Hara, Koichi Nagamoto, Yuzo Shigesato
    Effect of V and Ga dopant on the structural and electrical properties of ZnO films
    European Materials Research Society(E-MRS) 2016 Spring Meeting, Lille, France (2016/5).
  • Andreas Klein, Yuzo Shigesato
    In-situ Brouwer analysis on defects in homologous In2O3(ZnO) films
    European Materials Research Society(E-MRS) 2016 Spring Meeting, Lille, France (2016/5).
  • N. Oka, A. Murata, Y.Iwabuchi, H.Kotsubo, J. Jia, Y. Shigesato
    Pt-loaded WO3 photocatalyst with visible light activity deposited hollow-cathode reactive gas-flow sputtering
    European Materials Research Society(E-MRS) 2016 Spring Meeting, Lille, France (2016/5).
  • H. Kizuka, T. Yagi, Y. Yamashita, J. Jia, S. Nakamura, N. Taketoshi, Y. Shigesato
    Thermal conductivity of polycrystalline VO2 thin films across Metal-Insulator Transition
    European Materials Research Society(E-MRS) 2016 Spring Meeting, Lille, France (2016/5).

トップに戻る

2015年度

  • 須古 彩香, 賈 軍軍, 中村 新一, 岡島 敏浩, 重里 有三
    a-IGZO薄膜の後焼成に伴う構造緩和と結晶化
    第63回応用物理学会春季学術講演会, 神奈川 (2016/3).
  • 宮﨑 裕介, 丸山 恵莉, 賈 軍軍, 待永 広宣, 宮崎 司, 重里 有三
    プラズマ発行制御を用いた反応性スパッタ法によるITOおよびIZO透明導電膜の成膜
    第63回応用物理学会春季学術講演会, 神奈川 (2016/3).
  • 須古 彩香, 重里 有三
    アモルファスのIGO,IZO,IGZO薄膜の結晶化挙動
    日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 第70回研究会, 東京 (2016/1).
  • A. Suko, J. Jia, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Change in Structure and TFT Performances of IZO, IGO and IGZO Films by Crystallization
    The 22nd International Display Workshops (IDW’15), Shiga, Japan (2015/12).
  • [Invited] 重里 有三
    Change in Structure and TFT Performances of IZO, IGO and IGZO Films by Crystallization
    The 22nd International Display Workshops (IDW’15), Shiga, Japan (2015/12).
  • 荒川 哲也, 賈 軍軍, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    バナジウムと窒素をコドープした酸化チタンの成膜とキャラクタリセーション
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • 賈 軍軍, 中村 新一, 重里 有三
    ホロモガス構造を持つIn2O3(ZnO)5薄膜の電気と光学特性
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • 原 智彦, 賈 軍軍, 重里 有三
    反応性スパッタによる(ZnO)x(InN)1-x薄膜の作製
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • 磯﨑 勇児, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 中村 新一, 重里 有三
    反応性スパッタ法で作製したGaN薄膜の構造と熱物性
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • 上條 栞, 磯﨑 勇児, 八木 貴志, 山下 雄一郎, 賈 軍軍, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    反応性スパッタ法により合成したInGaN薄膜の特性
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • 西山 碩芳, 賈 軍軍, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    反応性スパッタ法によるNドープ、NbとNのコ・ドープしたTiO2薄膜の作製
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • 谷山 謙太, 宮澤 七海, 荒川 哲也, 賈 軍軍, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    反応性スパッタ法によるTiO2/WO3積層系可視光応答型光触媒の作製
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • 宮崎 裕介, 丸山 恵莉, 賈 軍軍, 待永 広宣, 宮崎 司, 重里 有三
    反応性スパッタ法による高品質ITO,IZO透明導電膜の作製
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • 上所 寛典, 賈 軍軍, 中村 新一, ダニエル グロス, 重里 有三
    反応性マグネトロンスパッタ法によるZnNx薄膜の合成
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • [Invited] 重里 有三
    反応性スパッタ法による機能性酸化物薄膜の高速成膜
    第25回日本MRS年次大会, 神奈川 (2015/12).
  • A. Suko, J. Jia, M. Kowatari, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Change in the structure and optical properties of IGZO films by crystallization
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • K. Inoue, A. Suko, J. Jia, Y. Shigesato
    Characterization of a-IGZO by Raman spectroscopy using total-internal-reflection technique
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • J. Jia, H. Wardenga, W. Mirko, A. Klein, Y. Shigesato
    Defect Mechanism of Homologous In2O3(ZnO)5 Films
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • Y. Miyazaki, E. Maruyama, J. Jia, H. Machinaga, T. Miyazaki, Y. Shigesato
    Deposition of ITO and IZO transparent conductive films by reactive sputtering in “transition region”
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • C. W. Oh-Yang, H. Kurt, J. Jia, Y. Shigesato
    Engineering the TIO anode interface in organic photovoltaics for improving charge carrier extraction
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • N. Oka, A. Murata, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, J. Jia, Y. Shigesato
    High-rate deposition of visible-light active thin-film WO3 photocatalyst by low-damage reactive-gas-flow sputtering
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • T. Hara, J. Jia, Y. Shigesato
    Optical and Electrical properties of Zn-In-O-N Films deposited by reactive sputtering
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • J. Jia, H. Kotake, S. Nakamura, T. Okajima, Y. Shigesato
    Sn-doping Induced Structural Changes for Sputtered TiO2 Films
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • H. Nishiyama, J. Jia, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Structural and optical properties of Nb-, N-doped and Nb-N co-doped TiO2 films
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • K. Ohtani, Y. Yamashita, J. Jia, T. Yagi, N. Taketoshi, Y. Shigesato
    Thermophysical Properties of Tungsten Oxide Films with Different Crystallinity
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • K. Taniyama, N. Miyazawa, T. Arakawa, J. Jia, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    TiO2/WO3 Multi-layer Films for Visible Light-active Photocatalyst
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • S. Ando, J. Jia, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Tuning the transition temperature of VO2 films deposited by reactive sputtering
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • H. Kamijo, J. Jia, D. Gross, Y. Shigesato
    ZnNx films deposited by reactive sputtering using He, Ne, Ar gases
    The 9th symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TOEO-9), Ibaraki, Japan (2015/10).
  • 磯﨑 勇児, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 中村 新一, 重里 有三
    エピタキシャルGaN薄膜における熱伝導率へのスパッタ性膜条件の影響
    第36回日本熱物性シンポジウム, 宮城 (2015/10).
  • [Invited] 重里 有三
    Recent studies of In2O3- and ZnO-based transparent conductive thin films
    European Materials Research Society 2015 fall meeting, Syposium G, Warsaw, Poland (2015/9).
  • 須古 彩香, 重里 有三
    透過型電子顕微鏡によるIGZO薄膜の結晶化過程観察
    日本顕微鏡学会・電子顕微鏡解析技術分科会 2015年夏の電子顕微鏡解析技術フォーラム, 静岡 (2015/8).
  • S. Kamijou, J. Jia, Y. Isosaki, Y. Shigesato
    GaN and InGaN films deposited by reactive sputtering
    The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes(ISSP2015), Kyoto, Japan (2015/7).
  • A. Suko, J. Jia, S. Nakamura, F. Utsuno, E. Kawashima, K. Yano, Y. Shigesato
    Study on the crystallization of amorphous IGZO thin films deposited by dc magnetron sputtering
    The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes(ISSP2015), Kyoto, Japan (2015/7).
  • Y. Isosaki, Y. Yamashita, T. Yagi, J. Jia, N. Taketoshi, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Thermophysical properties of epitaxial GaN films deposited by reactive sputtering using a Ga target
    The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes(ISSP2015), Kyoto, Japan (2015/7).
  • Y. Miyazaki, E. Maruyama, J. Jia, H. Machinaga, T. Miyazaki, Y. Shigesato
    Transparent conductive ITO and IZO films deposited by reactive sputtering using alloy targets with the plasma emission feedback system
    The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes(ISSP2015), Kyoto, Japan (2015/7).
  • [Invited] 重里 有三
    Various oxide films with high performances deposited by reactive sputtering
    The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2015), Kyoto, Japan (2015/7).
  • [Invited] 重里 有三
    アモルファイルIZO, IGZOの結晶化挙動
    酸化物半導体討論会, 神奈川 (2015/5).

トップに戻る

2014年度

  • 谷山 謙太, 宮澤 七海, 荒川 哲也, 賈 軍軍, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    スパッタ法によるTiO2/WO3積層系可視光応答型光触媒の作製
    光機能材料研究会第21回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」, 東京 (2014/12).
  • Y. Shigesato
    Al or Ga doped ZnO Films with High Conductivity and Transparency Deposited by Off-axis Sputtering
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • J. Jia, A. Takenoshita, K. Yamasaki, H. Nakazawa, Y. Shigesato
    Analysis on Carrier Density of the ITO Nanoparticles using Scanning Ellipsometry
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • A. Hayase, T. Matoba, J. Jia, Y. Shyigesato
    Comparative study on the Long-term durability for the various TAOS films
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • A. Suko, J. Jia, S. Nakamura, F. Utsuno, E. Kawashima, K. Yano, Y. Shigesato
    Crystallization of amorphous IGZO thin films
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • J. Jia, N. Oka, m. Kusayanagi. Y. Shigesato
    Effect of the buffer layer on the properties of Al doped ZnO films deposited by reactive sputtering
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • N. Oka, J. Jia, Y. SHigesato
    High-rate reactive sputter deposition for Transparent Conductive Oxide Films
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • S. Yonekawa, J. Jia, D. Gloess, Y. Shigesato
    n-type or p-type SnOx Films Deposited by Reactive Sputtering
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • E. Maruyama, J. Jia, M. Kusayanagi. Y. Shigesato
    Optical constants of Nb-doped TiO2 films
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • K. Inoue, A. Suko, J. Jia, Y. Shigesato
    Structure-property correlation of a-IGZO
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • M. Yatabe, J. Jia, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Ta-doped SnO2 films deposited by off-axis dc magnetron sputtering
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • H. Kizuka, T. Yagi, Y. Yamashita, J. Jia, S. Nakamura, N. Taketoshi, Y. Shigesato
    Temperature dependence of Phonon or Free Electron Contribution on Thermal Conductivity of VO2 Thin Films across Metal-Insulator Transition
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • H. Kotake, J. Jia, S. Nakamura, T. Okajima, Y. Shigesato
    The effect of impurity doping on crystal structure of TiO2 films deposited by reactive sputtering
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • K. Otani, Y. Yamashita, J. Jia, T. yagi, N. Taketoshi, Y. Shigesato
    Thermal conductivities of Tungsten Oxide Thin films with Different Crystallinity
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • Y. Isosaki, Y. Yamashita, T. Yagi, S. Nakamura, Y. Shigesato
    Thermal diffusivity of epitaxial GaN thin films deposited by reactive sputtering
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • N. Oka, J. Jia, Y. Shigesato
    Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by reactive sputtering
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • S. Ando, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Tuning of the transition temperature of VO2 films by external-stress impression
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • Y. Shigesato
    Very high rate deposition of WO3 Films Deposited by Hollow Cathode Gas Flow Sputtering for Electrochromic Applications
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2014/12).
  • 大谷 快, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 重里 有三
    LaAlO3(100)基板上のWO3エピタキシャル薄膜の熱拡散率
    第35回日本熱物性シンポジウム, 東京 (2014/11).
  • 鬼塚 日奈子, 八木 貴志, 山下 雄一郎, 賈 軍軍, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    Mo膜上およびサファイアC面上に成長させたVO2薄膜の熱伝導率
    第35回日本熱物性シンポジウム, 東京 (2014/11).
  • 磯崎 勇児, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 中村 新一, 重里 有三
    エピタキシャルGaN薄膜の熱拡散率に対する結晶の配向性と酸素濃度依存性
    第35回日本熱物性シンポジウム, 東京 (2014/11).
  • J. Jia, T. Torigoshi, A. Suko, Y. Shigesato, E. Kawashima, F. Utsuno, K. Yano
    Nitrogen induced crystallization in indium-tin-zinc-oxide thin film
    5th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCMs2014), Crete, Greece (2014/10).
  • A. Klein, M.V. Hohmann, M. Weidner, H.F. Wardenga, A. Fuchs, A. Wachau, P. Agoston, K. Albe, J. Jia, Y. Shigesato
    Potential gradients at surfaces, interfaces and grain boundaries of degenerately doped transparent conducting oxides
    5th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCMs2014), Crete, Greece (2014/10).
  • C. Ow-Yang, H. Kurt, S.K. Abkenar, O. Gurlu, J. Jia, Y.Shigesato
    Work function engineering of transparent conductive electrodes at the nanoscale
    5th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCMs2014), Crete, Greece (2014/10).
  • [Invited] 重里 有三
    Towards the property tailoring of ftransparent conducting In2O3-ZnO films
    5th International Symposium on Transparent Conductive Materials (TCMs2014), Crete, Greece (2014/10).
  • 賈 軍軍, 早勢 礼, 吉田 匡佑, 中村 新一, 重里 有三
    アモルファスIZO,IGO,IGZO薄膜の結晶化(1):IZOとIGO薄膜の結晶化挙動
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道 (2014/9).
  • 須古 彩香, 賈 軍軍, 中村 新一, 川嶋 絵美, 宇都 野太, 矢野 公規, 重里 有三
    アモルファスIZO,IGO,IGZO薄膜の結晶化(2):IGZOの結晶化挙動とデバイス特性
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道 (2014/9).
  • 米川 早紀, 賈 軍軍, Gloess Daniel, 重里 有三
    反応性スパッタ法によるn型、並びにP型SnOx薄膜の作成
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道 (2014/9).
  • 磯崎 勇児, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 賈 軍軍, 竹歳 尚之, 中村 新一, 重里 有三
    反応性スパッタ法の依るGaN薄膜のエピタキシャル成長
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道 (2014/9).
  • 安藤 峻, 賈 軍軍, 伊村 正明, 金井 敏正, 重里 有三
    外部応力印加によるVO2薄膜の相転移温度制御
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道 (2014/9).
  • 鬼塚 日奈子, 八木 貴志, 山下 雄一郎, 賈 軍軍, 中村 新一, 竹歳 尚之, 重里 有三
    金属・絶縁体相転移をまたぐVO2薄膜の熱伝導率の温度依存性
    第75回応用物理学会秋季学術講演会, 北海道 (2014/9).
  • [Invited] 重里 有三
    明視野像・暗視野像を用いた高度な材料解析-相分離技法の事例紹介-
    日本顕微鏡学会・電子顕微鏡解析技術分科会 2014年夏の電子顕微鏡解析技術フォーラム, 静岡 (2014/8).
  • [Invited] 重里 有三
    Optical and electrical properties of amorphous transparent In2O3-ZnO films
    The International Conference on Coatings on Glass and Plastics (ICCG-10), Dresden, Germany (2014/6).
  • [Invited] 重里 有三
    Review on thermophysical properties of various TCO thin films; ITO, IZO, AZO, ATO, TTO and NTO films
    The International Conference on Coatings on Glass and Plastics (ICCG-10), Dresden, Germany (2014/6).
  • [Invited] 重里 有三
    Oxide Electronic Devices in Transportation and Vehicles
    Society of Vacuum Coaters 57th Annual Technical Conference (SVC TECHCON 2014), Chicago, USA (2014/5).

トップに戻る

2013年度

  • 竹之 下愛, 賈 軍軍, 米澤 岳洋, 山崎 和彦, 中澤 弘実, 重里 有三
    分光エリプソメトリーによるITOナノ粒子のキャリア密度解析
    第61回応用物理学会春季学術講演会, 神奈川 (2014/3).
  • [Invited] 重里 有三
    Effects of aluminum doping on Fermi level in polycrystalline ZnO films
    2014 Photonics West (SPIE), San Francisco, USA (2014/2).
  • [Invited] 重里 有三
    ITO膜の成長メカニズムの解明やその制御
    応用物理学会薄膜・表面物理分科会 第42回薄膜・表面物理基礎講座, 東京 (2013/11).
  • H. Kizuka, T. Yagi, J. Jia, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Observation on Thermal Conductivity Change of VO2 Thin Film an Metal-semiconductor Transition
    The 10th Asian Termophysical Properties Conference (ATPC2013), Jeju, Korea (2013/9).
  • K. Ootani, Y. Yamashita, T. Yagi, J. Jia, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Thermal Diffusivity of WO3-x Films Deposited by dc Reactive Magnetron Sputtering
    The 10th Asian Termophysical Properties Conference (ATPC2013), Jeju, Korea (2013/9).
  • J. Jia, N. Oka, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Thermophysical Properties of Various TCO Films: ITO, IZO, AZO, and NTO films
    The 10th Asian Termophysical Properties Conference (ATPC2013), Jeju, Korea (2013/9).
  • J. Jia, M. Kusayanagi, N. Oka, S. Nakatomi, Y. Shigesato
    Carrier transport in polycrystalline Al doped ZnO films
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • S. Ando, J. Jia, M. Imura, T. Kanai, Y, Shigesato
    Deposition of VO2 by Reactive Sputtering with Impedance Control System
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • Y. Trigoshi, J. Jia, Y. Shigesato
    Energy distribution of O-ions during the IGZO sputtering process
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • M. Yatabe, J. Jia, Masaki. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    High-temperature durability of Ta doped SnO2 films deposited by rf sputtering
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • S. Yonekawa, S. Nakatomi, J. Jia, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    In-free Transparent Conductive Films Deposited by Reactive Sputtering with a Sintered Metal Powder Target using Ne, Ar or Kr
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • A. Hayase, T. Matoba, J. Jia, Y. Shigesato
    Long-term durability on the electrical properties of various TAOS materials
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • E. Maruyama, J. Jia, M. Kusayanagi, Y. Shigesato
    Optical constants of transparent conductive Nb-doped TiO2 films
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • H. Kotake, S. Nakatomi, J. Jia, S. Nakamura, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    The study on crystal growth of TiO2 films deposited by reactive sputtering
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • N. Oka, J. Jia, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Thermal transport properties of ITO, IZO, AZO, TTO and NTO films
    2013-JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Japan (2013/9).
  • [Invited] 重里 有三
    透明導電膜の基礎物性(ITO,IZO,AZO薄膜の構造、電気特性、光学特性、表面物性)
    日本顕微鏡学会・デバイス解析分科会 電子顕微鏡解析フォーラム, 神奈川 (2013/8).
  • [Invited] 重里 有三
    透明導電酸化物薄膜の作成と物性評価
    日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 第60回研究会, 東京 (2013/7).
  • J, Jia, M. Kusayanagi, N. Oka, Y. Shigesato
    Fabrication and characterization of Al doped ZnO films using reactive magnetron sputtering
    The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma processes(ISSP2013), Kyoto, Japan (2013/7).
  • Yasushi Sato, Nobuto Oka, Shin-ichi Nakamura, Yuzo Shigesato
    Atomic forced microscopy and transmission electron microscopy observations on the early stages of Sn-doped In2O3+ film growth deposited on a-SiO2 Surface by dc magnetron sputtering
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • A. Hayase, T. Matoba, J. Jia, Y. Shigesato
    Comparative study on long-term durability of In-Zn-O, In-Zn-Ga-O and Zn-Sn-O films as TAOS
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • H. Kotake, S. Nakatomi, J. Jia, S. Nakamura, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Crystal structures of TiO2 films deposited by reactive sputtering under various deposition parameters
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • Asami Yasui, Shingo Ogawa, Takashi Yamamoto, Masaaki Takeda, Ryo Endo, Yuzo Shigesato
    Electronic states of a-In-Zn-O films analyzed by x-ray photoelectron and reflected electron energy loss spectroscopies
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • Naoki Tsukamoto, Sakae Sensui, Junjun Jia, Nobuto Oka, Yuzo Shigesato
    In-situ analyses on the reactive sputtering process to deposit amorphous In2O3+-ZnO films using an In-Zn alloy target
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • Nobuto Oka, Yuta Sanno, Naoki Tsukamoto, Junjun Jia, Yuzo Shigesato
    Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc magnetron sputtering using Ni-Ti alloy target with impedence control systems
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • E. Maruyama, J. Jia, M. Kusayanagi, Y. Shigesato
    Optical constants of Nb-doped TiO2 films analyzed by scanning ellipsometry
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • K. Otani, J. Jia, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Optical, electrical and thermophysical properties of amorphous and polycrystalline WO3+-x films deposited by dc reactive magnetron sputtering
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • Moena Yatabe, Junjun Jia, Masaaki Imura, Toshimasa Kanai, Yuzo Shigesato
    Sputter deposition of Ta-doped SnO2 films using various oxide targets
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • S. Yonekawa, S. Nakatomi, J. Jia, M. Imura, T. Kanai, Y. Shigesato
    Ta-doped SnO2 films deposited by reactive sputtering with a sintered Sn and Ta metal powder target using Ne, Ar or Kr
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • Hinako Kizuka, Takashi Yagi, Junjun Jia, Yuichiro Yamashita, Naoyuki Taketoshi, Tetsuya Baba, Yuzo Shigesato
    Thermal conductivity of VO2 thin films across metal-semiconductor transition
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • Shyun Ando, Junjun Jia, Masaaki Imura, Toshimasa Kanai, Yuzo Shigesato
    Thermochromic VO2 Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering Using a V-metal Target with Impedance Control Method
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).
  • J. Jia, A. Yoshimura, Y. Kagoya, N. Oka, Y. Shigesato
    Transparent Conductive Al or Ga doped ZnO films deposited by off-axis sputtering
    8th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics(TOEO-8), Tokyo, Japan (2013/5).

トップに戻る

2012年度

  • [Invited] 重里 有三
    ITO, IZO, AZO薄膜の仕事関数と電気特性、光学特性
    日本学術振興会 透明酸化物光・電子材料第166委員会 第58回研究会, 東京 (2013/1).
  • M. Kusayanagi , A. Uchida, N. Oka, J. Jia, Y. Shigesato
    Al-doped ZnO films deposited by reactive sputtering using slightly reduced buffer layer
    4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012), Crete, Greece (2012/10).
  • Y. Torigoshi, T. Matoba, N. Oka, J. Jia, E. Kawashima, M. Nishimura, M. Kasami, K. Yano, Y. Shigesato
    Amorphous Indium-Tin-Zinc-Oxide (a-ITZO) films deposited by DC sputtering with O2, H2O, N2, oe N2 introduction
    4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012), Crete, Greece (2012/10).
  • A. Yoshimura, Y. Kagoya, N. Oka, J. Jia, Y. Shigesato
    high quality Al or Ga doped ZnO films deposited by off-axis sputtering
    4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012), Crete, Greece (2012/10).
  • N. Oka, Y. Sanno, N. Tsukamoto, J. Jia, Y. Shigesato
    Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc magnetron sputtering using Ni-Ti alloy target with impedance control systems
    4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012), Crete, Greece (2012/10).
  • R. Sato, N. Oka, J. Jia, F. Utsuno, A. Kaijo, Y. Shigesato
    Optical properties of polycrystalline or amorphous In2O3-based transparent conductive films
    4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012), Crete, Greece (2012/10).
  • T. Yoshikawa, N. Oka, J. Jia, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, K. Hattori, Y. Seino, Y. Shigesato
    Thermophysical properties of amorphous indium-gallium-zinc-oxide thin films
    4th International Symposium on Transparent Conductive Materials(TCM 2012), Crete, Greece (2012/10).
  • 吉川 透, 岡 伸人, 賈 軍軍, 八木 貴志, 山下 雄一郎, 竹歳 尚之, 馬場 哲也, 服部 浩一郎, 清野 豊, 重里 有三
    In2O3系透明酸化物薄膜の熱拡散率とその温度依存性
    第33回日本熱物性シンポジウム(日本熱物性学会), 大阪 (2012/10).
  • 川﨑 静香, 賈 軍軍, 岡 伸人, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 馬場 哲也, 重里 有三
    酸化物薄膜と金属薄膜の界面熱抵抗に関する研究
    第33回日本熱物性シンポジウム(日本熱物性学会), 大阪 (2012/10).
  • 鳥越 祥文, 的場 竜樹, 岡 伸人, 賈 軍軍, 川嶋 絵美, 西村 麻美, 笠見 雅司, 矢野 公規, 重里 有三
    O2, H2O, N2, またはN2O導入DCスパッタリング成膜アモルファスIn-Sn-Zn酸化物(a-ITZO)薄膜
    第73回応用物理学会学術講演会, 愛媛 (2012/9).
  • 吉村 彩, 籠谷 幸広, 岡 伸人, 賈 軍軍, 重里 有三
    Off-axis スパッタ法による低比抵抗AZO, GZOの成膜
    第73回応用物理学会学術講演会, 愛媛 (2012/9).
  • 賈 軍軍, 高崎 愛子, 岡 伸人, 重里 有三
    アモルファスIZO薄膜の光学的バンドギャップの解析
    第73回応用物理学会学術講演会, 愛媛 (2012/9).
  • 吉村 彩, 籠谷 幸広, 岡 伸人, 賈 軍軍, 重里 有三
    低比抵抗AlドープZnO(AZO)薄膜の成膜
    第73回応用物理学会学術講演会, 愛媛 (2012/9).
  • 佐藤 里奈, 岡 伸人, 賈 軍軍, 宇津野 太, 海上 暁, 重里 有三
    分光エリプソメトリによる多結晶ITO, アモルファスIZO薄膜の解析
    第73回応用物理学会学術講演会, 愛媛 (2012/9).
  • J. Jia, A. Takasaki, N. Oka, Y. Shigesato
    Fermi level shift of polycrystalline ITO and amorphous IZO thin films
    The Twentieth Annual International Conference on Composites or Nano Engineering(ICCE), Beijing, China (2012/7).
  • M. Watanabe, N. Oka, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato
    Electrochromic WO3 Films Deposited by Hollow Cathode Gas Flow Sputtering with Very High Deposition Rate
    9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG9), Breda, Netherlands (2012/6).
  • M. Watanabe, N. Oka, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato
    High performance electrochromic WO3 films deposited by hollow cathode gas flow sputtering
    9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG9), Breda, Netherlands (2012/6).
  • A. Takasaki, J. Jia, N. Oka, Y. Shigesato
    How work function depends on carrier density and optical band gap various TCO films
    9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG9), Breda, Netherlands (2012/6).
  • N. Oka, Y. Sanno, N. Tsukamoto, Y. Shigesato
    Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc magnetron sputtering using Ni-Ti alloy target
    9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG9), Breda, Netherlands (2012/6).
  • A. Murata, N. Oka, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato
    Visible-light active photocatalytic Pt/WO3 films deposited by hollow cathode gas flow sputtering
    9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics(ICCG9), Breda, Netherlands (2012/6).
  • Junjun Jia, Nobuto Oka, Yu Muto, Yuzo Shigesato
    Carrier Transport Properties of Sb- and Ta-doped SnO2 (ATO and TTO) Films
    2012 MRS Spring Meeting, USA (2012/4).
  • Junjun Jia, Nobuto Oka, Aiko Takasaki, Yuzo Shigesato
    Comparative Study on Electrical and Optical Properties between Polycrystalline ITO, AZO and Amorphous IZO Films
    2012 MRS Spring Meeting, USA (2012/4).
  • Junjun Jia, Nobuto Oka, Aiko Takasaki, Yuzo Shigesato
    Experimental Observation of Fermi Level Shift in Aluminum Doped ZnO Films
    2012 MRS Spring Meeting, USA (2012/4).
  • Nobuto Oka, Yuta Sanno, Naoki Tsukamoto, Junjun Jia, Yuzo Shigesato
    Nb-doped TiO2 Films with Low Resistivity Deposited by Reactive dc Magnetron Sputtering with Impedance Control Systems
    2012 MRS Spring Meeting, USA (2012/4).
  • Nobuto Oka, Maiko Kikuchi, Masahiro Imai, Junjun Jia, Yuzo Shigesato
    Sputter Deposition of WO3 Films as Visible Light-active Photocatalyst
    2012 MRS Spring Meeting, USA (2012/4).

トップに戻る

2011年度

  • 賈 軍軍, 高崎 愛子, 岡 伸人, 重里 有三
    Investigation on Band –gap Shrinkage Phenomenon for ZnO:Al Films
    第59回応用物理学会関係連合講演会, 東京 (2012/3).
  • 井上 敬子, 松田 景子, 吉川 正信, 岡 伸人, 重里 有三
    ラマン分光法おうびカソードルミネッセンス法によるa-IGZO膜の構造評価
    第59回応用物理学会関係連合講演会, 東京 (2012/3).
  • 岡 伸人, 賈 軍軍, 八木 貴志, 山下 雄一郎, 竹歳 尚之, 馬場 哲也, 重里 有三
    様々な透明導電膜の熱物性
    第59回応用物理学会関係連合講演会, 東京 (2012/3).
  • Kazuya Kanemoto, Nobuto Oka, Yuzo Shigesato
    Dependence of Film Thickness on Photocatalytic TiO2 films Depositied by Rf Reactive Sputtering
    The 21st MRS-Japan Academic Symposium, Yokohama, Japan (2011/12).
  • Masakazu Ozawa, Naoki Tsukamoto, Nobuto Oka, Yuzo Shigesato
    Effects of Mesh on The Reactive Sputtering Process to Deposit TiNX and TiOX Films Using Ti Target
    The 21st MRS-Japan Academic Symposium, Yokohama, Japan (2011/12).
  • T. Matoba, N. Oka, Y. Shigesato
    Electrical Properties and Structure of Amorphous Zn-Sn-O Films
    The 21st MRS-Japan Academic Symposium, Yokohama, Japan (2011/12).
  • J. Takashima, A. Murata, N. Oka, Y. Shigesato
    Study on Polycrystalline WO3 Films as Visible Light-active Photocatalyst
    The 21st MRS-Japan Academic Symposium, Yokohama, Japan (2011/12).
  • Azusa Uchida, Nobuto Oka, Yuzo Shigesato
    The Early Stages of ZnO, Al-doped ZnO, Ga-doped ZnO Films Deposited by dc magnetron sputtering
    The 21st MRS-Japan Academic Symposium, Yokohama, Japan (2011/12).
  • J. Jia, Y. Torigoshi, N. Oka, E. Kawashima, F. Utsuno, K. Yano, Y. Shigesato
    Amorphous Indium-Tin-Zinc-Oxide (a-ITZO) films deposited by DC sputtering using various reactive gases
    The 1st E-MRS/MRS-J Bilateral Symposia, Yokohama, Japan (2011/12).
  • 遠藤 亮, 平野 孝行, 竹田 正明, 大石 学, 吉川 透, 岡 伸人, 重里 有三
    3ω法によるアモルファルIGZO膜の熱伝導率測定
    第32回日本熱物性シンポジウム, 神奈川 (2011/11).
  • 川崎 静香, 岡 伸人, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 馬場 哲也, 重里 有三
    Al2O3/W多層膜における界面熱抵抗
    第32回日本熱物性シンポジウム(日本熱物性学会), 神奈川 (2011/11).
  • 田崎 ちひろ, 岡 伸人, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 馬場 哲也, 神山 敏久, 重里 有三
    TiO2およびNbドープTiO2薄膜の熱拡散率測定(2)
    第32回日本熱物性シンポジウム(日本熱物性学会), 神奈川 (2011/11).
  • 吉川 透, 岡 伸人, 山下 雄一郎, 八木 貴志, 竹歳 尚之, 馬場 哲也, 服部 浩一郎, 清野 豊, 重里 有三
    アモルファスIGZO薄膜の熱拡散率測定
    第32回日本熱物性シンポジウム(日本熱物性学会), 神奈川 (2011/11).
  • M. Ozawa, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato
    Effects of high energy particles bombarding on growing film surface during reactive sputtering deposition of TiNx films
    BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T, China (2011/10).
  • T. Matoba, N. Oka, S. Nakamura, A. Hasegawa, T. Hattori, M. Ishida, Y. Shigesato
    Formation of nano-crystallites in amorphous Zn-Sn-O films as transparent oxide semiconductors
    BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T, China (2011/10).
  • Junjun Jia, Akiko Takasaki, Nobuto Oka, Yuzo Shigesato
    Study on Shifted Fermi Level of indium-free Transparent Conductive Oxide
    BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T, China (2011/10).
  • S. Kawasaki, N. Oka, Y. Yamashita, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Thermal properties of nano-size interface between oxide and metallic films -Thermal boundary resistance between Al2O3 and W films
    BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T, China (2011/10).
  • [Invited] 重里 有三
    透明導電膜の最新動向★徹底解説~成膜法・新材料・最新動向を詳解~
    Electronic Journal 第937回 Technical Seminar, 東京 (2011/10).
  • Chihiro Tasaki, Nobuto Oka, Toshihisa Kamiyama, Yuzo Shigesato
    Electrical Properties of New In-free Transparent Conductive Oxide Films; Nb-doped TiO2
    E-MRS 2011 Fall Meeting, Poland (2011/9).
  • N. Oka, M. Watanabe, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato
    Reactive Gas Flow-Sputter deposition of amorphous WO3 Films for electrochromic devices
    E-MRS 2011 Fall Meeting, Warsaw, Poland (2011/9).
  • S. Nakatomi, Nobuto Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Nobuto Oka, Y. Shigesato
    Sb-or Ta-doped SnO2 (ATO or TTO) Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
    E-MRS 2011 Fall Meeting, Warsaw, Poland (2011/9).
  • Nobuto Oka, Akiko Takasaki, Yuzo Shigesato
    Study on Work Function of Al-doped ZnO Films Surface
    E-MRS 2011 Fall Meeting, Warsaw, Poland (2011/9).
  • Toru Yoshikawa, Nobuto Oka, Takashi Yagi, Yuichiro Yamashita, Naoyuki Taketoshi, Tetsuya Baba, Yuzo Shigesato
    Thermal Diffusivities of Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide (a-IGZO) Films
    E-MRS 2011 Fall Meeting, Warsaw, Poland (2011/9).
  • Chihiro Tasaki, Nobuto Oka, Takashi Yagi, Yuichiro Yamashita, Naoyuki Taketoshi, Tetsuya Baba, Yuzo Shigesato
    Thermophysical Properties of Pure and Nb-doped TiO2 Films
    E-MRS 2011 Fall Meeting, Warsaw, Poland (2011/9).
  • T. Matoba, N. Oka, S. Nakamura, A. Hasegawa, T. Hattori, M. Ishida, Y. Shigesato
    Zn-Sn-O Films as Transparent Oxide Semiconductors Deposited by Sputtering
    E-MRS 2011 Fall Meeting, Warsaw, Poland (2011/9).
  • [Invited] 重里 有三
    Heat diffusion mechanisms in transparent conductive oxide films
    E-MRS 2011 Fall Meeting, Warsaw, Poland (2011/9).
  • 村田 亜紀代, 塚本 直樹, 岡 伸人, 福地 将志, 福島 達也, 梶 弘典, 重里 有三
    CT個体NMR法による光触媒表面へのアセトアルデヒドの吸着状態解析
    2011年度春季第58回応用物理学関連連合講演会, 神奈川 (2011/3).
  • 井上 敬子, 松田 景子, 古川 正信, 岡 伸人, 重里 有三
    ラマン分光法およびカソードルミネッセンス(CL)法によるa-IGZO膜評価
    2011年度春季第58回応用物理学関連連合講演会, 神奈川 (2011/3).
  • A. Takasaki, N. Oka, Y. Shigesato
    Carrier density dependence of work function for Al-doped ZnO(AZO) films
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • K. Inoue, K. Matsuda, M. Yoshikawa, N. Oka, Y. Shigesato
    Characterization of a-IGZO Films by Raman Spectroscopy
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • M. Takeda, R. Endo, Y. Tkai, M. Oishi, N. Oka, Y. Shigesato
    Dependence of Total gas pressure on Thermal and Mechanical properties and Internal Structures in Indium Zinc Oxide Thin Films
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • S.V. Green, M. Watanabe, N. Oka, G.G. Granqvist, Y. Shigesato
    Electrochromic Properties of Mg-doped NiOx Thin Films Sputtered with H2O Introduction
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • M. Watanabe, N. Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato
    High Rate Deposition of Electrochromic WO3 Films by Hollow Cathode Gas Flow Sputtering
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • Y. Muto, S. Nakatomi, N. Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato
    High Rate Deposition of Ta-doped SnO2(TTO) by Reactive Sputtering with Plasma Emission Intesity or Impedance Feedback systems
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • S. Sensui, M. Ozawa, N.Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato
    In-situ analyses on sputtered fragments in the reactive sputtering process to deposit amorphous IZO films using IZ target
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • M. Ozawa, S. Sensui, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato
    In-situ analyses on the reactive sputtering process to deposit TiNx films
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • N. Tsukamoto, S. Sensui, M. Ozawa, N. Oka, Y. Shigesato
    In-situ analyses on the reactive sputtering processes to deposit AZO films using an Al-Zn alloy target
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • J. Takashima, A. murata, N. Oka, Y. Shigesato
    Photocatalytic activity of WO3 films crystallized by post-annealing in air
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • K. Kanemoto, A. Murata, N. Tsukamoto, N. Oka, M. Fukuchi, T. Fukushima, H. Kaji, Y. Shigesato
    Photocatalytic TiO2 film depositied by rf reactive aputterin
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • A. Uchida, N. Oka, Y. Shigesato
    Study on the initial film growth of ZnO transparent conductive films
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • S. Kawasaki, N. Oka, Y. Yamashita, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Thermal boundary resistance between aluminum oxide and tungsten films
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • C. Tasaki, N. Oka, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, T. Kamiyama, Y. Shigesato
    Thermal diffusivity measurement of TiO2 and Nb-doped TiO2 thin films
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • K. Kato, T. Yagi, N. Taketoshi, T. Baba, N. Oka, Y. Shigesato
    Thermophysical properties of Alq3 and α-NPD films
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • T. Yoshikawa, N. Oka, T. Yagi, Y. Yamashita, N. Taketoshi, T. Baba, Y. Shigesato
    Thermophysical properties of amorphous IGZO films deposited by dc magnetron sputtering
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • Y. Sanno, N. Tsukamoto, N. Oka, Y. Shigesato
    Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by reactive dc magnetron sputtering with impedance control systems
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • A. Murata, N. Oka, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato
    Visible-light Active Photocatalytic WO3 Films Deposited by Reactive Gas-Flow Sputtering
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • T. Matoba, N. Oka, S. Nakamura, a. Hasegawa, T. Hattori, M. Ishida, Y. Shigesato
    Zn-Sn-O films as transparent amorphous oxide semiconductors
    7th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, Tokyo, Japan (2011/3).
  • [Invited] 重里 有三
    透明導電膜の技術トレンド~基礎、成膜方法から新規材料開発まで~
    『透明導電膜』セミナー, 東京 (2011/1).

トップに戻る